Exquis T4 Pro 全譜直讀光譜儀
技術(shù)參數(shù)
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜充氬型光學(xué)系統(tǒng) |
| 電極 分析間隙 氬氣流量 | 鎢材噴射電極 4mm 激發(fā)流量約3.5L/min,待機(jī)流量約0.1L/min |
| 光源類型 | 數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS) 100-1000HZ |
| 探測(cè)器 其他功能 | 高性能CMOS陣列(4096像素) 光室溫度,軟件自動(dòng)控制壓力,通訊監(jiān)測(cè) |
| 可檢測(cè)基 檢測(cè)時(shí)間體 | Fe,Al,Cu,Zn,Ni,Mg,Ti,Pb,Sn 依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右 |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 主機(jī)尺寸 | 530*660*350mm 約47Kg |
儀器特點(diǎn)
| 采用了先進(jìn)的光室密封循環(huán)充氬技術(shù),有效隔絕外界干擾,確保分析過程在純凈、穩(wěn)定的環(huán)境中進(jìn)行。 | |
| 配備低噪聲的4096像素CMOS檢測(cè)器,實(shí)現(xiàn)了對(duì)Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金屬基體及非金屬 元素(N,C,S,P,B,As)的全譜分析。 其卓越的紫外響應(yīng)靈敏度,無需額外鍍膜即可直接分析非金屬元素。 | |
| 擁有專利的全數(shù)字高穩(wěn)定性激發(fā)光源,頻率最高可達(dá)1000Hz,能夠根據(jù)不同材質(zhì)自動(dòng)匹配最佳激發(fā)條件,確保 每次分析都能獲得最優(yōu)結(jié)果。 | |
| 采用全新的整體恒溫屏蔽技術(shù),將溫度控制精度提升至±0.1℃,確保光學(xué)系統(tǒng)在穩(wěn)定、均勻的溫度環(huán)境中工作。 | |
| 創(chuàng)新的智能全覆蓋加熱及保溫技術(shù)使得冷機(jī)啟動(dòng)時(shí)間大幅縮短至30分鐘,提高了整體運(yùn)營(yíng)效率。 | |
| 創(chuàng)新的曲線智能跳轉(zhuǎn)技術(shù)使得Exquis T4 Pro能夠根據(jù)樣品的分析值在后臺(tái)智能選擇最佳分析譜線,進(jìn)一步提高 了分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和精度,分析結(jié)果自動(dòng)判斷產(chǎn)品牌號(hào)。 |